製品情報
InnoVEX 2026 半導体応用部門受賞企業Quantum NIL Corporation(台湾)
Posted on 2026/06/09
Quantum NIL Corporation（分子尼奧科技）は、量子科学の知見を活用したナノインプリントリソグラフィー（Nanoimprint Lithography：NIL）技術を中核とするディープテック企業である。高い柔軟性を備えたナノ製造ファウンドリープラットフォームの構築を進めており、フォトニクス、化合物半導体、および次世代デバイス向けに、ウエハーレベルでのナノ構造製造ソリューションを提供している。
同社のプラットフォームは、AIデータセンター向け光通信レーザー部品、メタオプティクス（Meta-Optics）、バイオメディカルチップなど、多様な先端デバイスの量産に対応する。従来の電子線描画（Electron Beam Lithography）と比較して、独自の複合型ナノインプリント技術は、高スループット、低コスト、優れた材料適応性を実現しており、次世代デバイスの革新を支える重要な製造基盤技術として注目されている。
主力製品・ソリューション：
複合型ナノインプリント製造ファウンドリープラットフォーム
同社は、ナノインプリントリソグラフィー（NIL）を基盤としたナノ製造プラットフォームを提供しており、フォトニクス、化合物半導体、新興デバイス分野において高精度なナノ構造形成を可能にする。
特に、高速光通信に不可欠な電界吸収型変調レーザー（EML）をはじめとする光デバイスの量産に対応しており、リン化インジウム（InP）などの非シリコン基板上においても、高い均一性と生産性を実現する。これにより、800Gおよび1.6T光トランシーバーモジュールの製造におけるボトルネック解消に貢献している。
また、従来の電子線描画プロセスと比べて、製造コストの削減と量産展開の容易さに優れる点も特徴である。モールド設計、ナノパターン形成、ウエハーレベル製造プロセスを一貫して提供することで、研究開発段階から量産化までの移行を加速し、多様な先端アプリケーション向け製品開発を支援している。