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光焱(EnliTech)AI需要でCPO量産テスト重要性高まる 台湾光計測大手エングライテック、シリコンフォトニクス前工程の検査領域に参入
Posted on 2026/09/04
写真出典：Enli Technology Co., Ltd.
AI（人工知能）の急速な普及に伴い光相互接続の需要が高まる中、シリコンフォトニクスの技術競争は「製造」から「テストの効率化と解析能力」へとシフトしつつある。光計測技術を手がける台湾のエングライテック（光焱科技、高雄市）は、これまで培ってきた技術基盤を強みにシリコンフォトニクス分野へ参入し、ウェハー級光学検査システム「NightJar™」を開発した。後工程の封止や自動化装置が中心である従来の台湾半導体製造装置産業において、独自のポジションを確立している。
従来の半導体検査がパターン欠陥や微細寸法（CD）の測定を主とするのに対し、シリコンフォトニクスでは光結合や伝送損失、スペクトル応答といった「素子内における光の挙動」の把握が不可欠となる。現状の電気・光学信号テストでは機能の合否判定は可能であるものの、異常発生時に損失位置や原因を特定することは困難であった。
同社はダイ切り出しや高価格な後工程に入る前にウェハー段階で光学特性を把握する「ウェハーレベル・オプティカル・スクリーニング」を提唱。技術最高責任者（CTO）の廖華賢（ジョセフ・リャオ）氏は、分光イメージング技術（Spectral Imaging）を基盤とした光損失マッピング技術を展開し、ウェハー上の光学的異常をダイ位置や波長ごとに可視化することで、光集積回路（PIC）の故障解析精度を向上させると説明する。
業界内では、オン・ト・イノベーション（Onto Innovation）がインライン検査、フィコンテック（ficonTEC）やアドバンテストがモジュールやCPO（共同パッケージド・オプティクス）の量産テストに注力する一方、エングライテックは前工程のウェハー級診断に特化する。シリコンフォトニクスの商業化が進む中、検査装置は単なる補助ツールからサプライチェーン全体の競争力を左右する中核プロセスへと進化を遂げている。